真空應用技術部,技術力量雄厚,具有十幾年豐富的真空設備的設計及生產經驗,產品涉及電真空器件的生產設備、鍍膜生產設備、超高真空科研生產設備及各種超高真空標準件。能按照客戶的要求,設計制造。生產的各種產品已廣泛應用于國家科研部門,得到了很高的評價。本公司具備很強的非標設計能力,可以根據用戶具體要求,設計制造非標產品。本公司制造的真空應用設備廣泛應用于航空航天、電子信息、原子能、科學研究、建筑裝潢、機械汽車、光學、能源等行業。設備工作穩定可靠,深受用戶好評。
(1)雙位高頻除氣臺
系統主要性能指標:
1、空載極限真空度5×10-5Pa
2、系統為雙位結構,可分別工作。主抽泵分別為600L及1500L分子泵,前級為8L機械泵。
3、高頻加熱指標;最大功率30KW,工作頻率300~500KHZ,交流電源380V50A。
4、用于超導膜的制造及各種鍍膜試驗
(2)陰極真空預處理臺(主要用于陰極預處理及試驗二極管排氣)
系統主要性能指標:
1、空載極限真空度5×10-6Pa
2、啟動30分鐘后系統真空度8×10-4Pa
3、烘箱溫度:450℃
(3)等離子沉積系統:
系統主要性能指標:
1、極限真空度1Pa
2、配置直聯泵及羅茨泵
3、系統包括樣品水冷轉盤、水冷擋板、水冷快速探頭等
(4)真空爐
系統主要性能指標:
1、極限真空度6×10-4Pa
2、溫度范圍:950℃~1200℃可控,溫度均勻性±10℃
3、真空腔體Φ350×300
4、用于真空退火、真空釬焊和真空除氣
(5)、程控排氣臺系統主要性能指標:
1、系統極限真空度5×10-9Pa
2、烘箱極限真空度<2Pa
3、烘箱尺寸Φ500×1200
4、可按用戶需要配置電源,設置溫控曲線及工藝控制、記錄。